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  • 光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) (Mask Aligner)

    光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) (Mask Aligner) 光刻機(jī)又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng),紫外曝光機(jī)等;ECOPIA為的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn),并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域;該公司是目前世界上早將光刻機(jī)商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力;并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以

    更新時(shí)間:2020-11-01

    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商

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